半导体硅片废水处理工艺

半导体硅片废水处理工艺是一个复杂的过程，涉及到多种技术和方法。主要目的是去除废水中的污染物，使其达到排放标准或回用标准。

一、半导体硅片废水来源及特点

半导体硅片废水主要来源于硅片表面清洗、蚀刻、去磷硅玻璃清洗等工序，以及设备清洗和试验过程中。废水成分复杂，含有多种化学物质如氢氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)、氢氧化钠(NaOH)、有机溶剂以及重金属离子等。这些废水通常具有污染物浓度高、生物降解性差、水质波动大等特点。

二、半导体硅片废水处理方法

1.HUBF水解酸化+HFST好氧工艺：这是一种常用的废水处理工艺，涉及到钢制罐体的使用。这种工艺能够有效地处理半导体硅片生产过程中产生的废水，包括前端物化预处理、末端气浮及置换等步骤。此外，钢罐内部聚脲防腐也是该工艺的一部分，以确保处理系统的长期稳定运行。

2.超纯水（UPW）的使用：在半导体制造过程中，超纯水被用于制造不含任何杂质的半导体。使用过的废水必须经过处理后才能正确排放或再生。SK海力士等公司在水资源管理方面采取了严格的措施，包括活性炭、总磷去除设备等，以深度处理废水。

3.废水的分类处理：半导体废水通常包括含铜、镍、锡等重金属废水，含氟离子废水以及由研磨硅片产生的废水。这些废水需要通过特定的处理工序来减少污水排放，降低废水处理系统的成本，并实现水资源的循环利用。

4.物理、化学和生物处理：半导体硅片行业广泛采用物理、化学和生物处理工艺来减少废水排放对环境的影响。物理处理包括沉淀、过滤、蒸发浓缩等；化学处理涉及使用化学品来去除或中和废水中的污染物；生物处理则利用微生物来分解有机物质。

5.废气和废水的结合处理：提供了针对半导体行业需求定制的全面产品组合，包括在废气起始点直接处理废气的系统，以及处理湿法工艺过程产生的废水。这些系统可以清除废气中的有害物质，并从废水中清除氟化物、铵和有机物质。

6.先进制程废水处理技术：随着半导体制造进入更先进的制程，如28纳米制程，废水处理技术也需要相应升级以满足更严格的排放规则。这包括对废水排放的影响进行评估，以及对废水处理系统进行改进。

7.水资源的循环利用：还有的公司通过持续的技术升级和工艺改进，为半导体企业提供了更优质、可靠的水处理解决方案，实现了废水处理和水资源再利用水平的提升。

这些工艺和技术的结合，使得半导体硅片废水处理能够达到环保标准，同时实现资源的循环利用。